盛美上海进军涂胶/显影Track市场，以满足半导体

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盛美上海进军涂胶/显影Track市场，以满足半导体集成电路制造商的光刻工艺需求ACM盛美上海进军涂胶/显影Track市场，全新Track设备充分利用了盛美上海在涂胶显影领域的深厚技术基础，ArF型号将于第四季度交付盛美半导体设备（上海）股份有限公司(以下简称“盛美上海”)（科创板股票代码688082），作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装应用提供晶圆工艺解决方案的领先供应商，今日成功推出涂胶显影Track设备，标志着该公司已正式进军涂胶显影Track市场，这也是该公司提升其在清洗、涂胶和显影领域内专业技术的必然结果。盛美上海于2013年开发了首个封装涂胶机和显影机，并于2014年交付了给客户。盛美上海将于几周后向中国国内客户交付首台ArF工艺涂胶显影Track设备，并将于2023年推出i-line型号设备。此外，公司已开始着手研发KrF型号设备。

关键词： 光刻工艺 股份有限公司 以下简称