【芯源微发布新一代浸没式高产能涂胶显影机预计明年可

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【芯源微发布新一代浸没式高产能涂胶显影机 预计明年可实现批量订单】《科创板日报》17日讯，芯源微今日在公司成立二十周年之际举行新品发布会，宣布推出新一代浸没式高产能涂胶显影机FT(III)300。作为芯源微自主开发的第三代机型，浸没式高产能涂胶显影机具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。目前，该款机型已通过客户端验证，达到客户量产要求，成功打破国外垄断，填补国内空白。新品发布会以线上形式举行，记者了解到，该机型可在复杂光刻工艺下实现300片以上产能，同时可匹配所有主流光刻机联机量产，通过选配覆盖国内28nm及以上所有工艺节点、覆盖offline Barc、KrF、ArF、浸没式等光刻工艺。芯源微董事长宗润福表示，该机型下游意向客户覆盖国内逻辑、存储、功率器件等多家国内知名厂商，预计明年可实现批量订单。

关键词： 光刻工艺 公司成立 易维护性